近日,西湖大学、慕德微纳(杭州)科技有限公司联合发布了一种颠覆性的解决方案,采用碳化硅(SiC)材料成功研发出超轻、超薄的衍射光波导。该方案首次实现了单层碳化硅衍射光波导的设计、量产级制造与封装,为基于SiC的AR技术路线奠定了开创性基础。基于该单层SiC波导,不仅实现了无彩虹伪影的全彩显示,且其重量仅为3.795克,厚度薄至0.75毫米,实现了远超传统方案的轻量化水平(注:日常佩戴的近视眼镜单目在几克-几十克不等)。
该技术与大规模量产的超薄菲涅尔处方镜片兼容,为近视用户提供了“一站式”的轻便AR视觉解决方案。
相关研究成果以“SiC Diffractive Waveguides for Augmented Reality: Single-Layer, Full-Color, Rainbow-Artifact-Free Display with Vision Correction”为题发表于eLight(影响因子32.1,入选两期卓越计划)。
与笨重且存在彩虹伪影的传统玻璃波导方案相比,该团队的SiC波导方案从根本上改变了AR设备的形态和视觉体验(图1a)。最终封装的单片波导镜片重量仅为3.795克,厚度仅0.75毫米,实现了革命性的轻量化。实物展示(图1b)和全彩显示效果(图1c)直观证明,该研究成功地将一个纯净、无干扰的AR世界带入现实,无论在暗室还是日光环境下,都能保持卓越的显示质量。
SiC 波导的工作原理图和性能 (a) SiC波导(左)与传统玻璃波导(右)的对比;(b) SiC波导静态模组(上)和整机演示模组(下);(c) AR场景整机演示模组测试结果
文章中慕德微纳团队提到,为了突破传统NIL技术的局限性,他们开发了一种可大规模生产的纳米压印剥离工艺(NIL-to-lift-off)。
与纳米压印刻蚀工艺(NIL-to-etch)不同,慕德微纳采用金属掩模,从而实现更高的蚀刻选择性和更广泛的适用性。该工艺首先在SiC晶圆上旋涂剥离光刻胶,巧妙地利用纳米压印批量化转移结构图案,通过蒸镀与剥离工艺实现金属掩模制备,攻克了SiC这类硬脆材料的干法刻蚀低选择比难题。
慕德微纳表示,采用该工艺并叠加碳化硅衬底的大幅降价,未来光波导的成本可以大幅降低。
同时为了提高透射率并保护光波导结构,慕德微纳还为碳化硅光波导引入了2种超薄工艺。
首先,光波导采用夹层结构。据介绍,这种超薄封装方法可以保护SiC光波导并提高光透射率。
同时该团队还通过NIL工艺制造了一种超薄处方菲涅尔透镜,该透镜的 PET 薄膜厚度为 200μm,与传统透镜相比,厚度减少了90%以上,这种超薄处方菲涅尔透镜提供了一种多功能、低成本、高良率和高集成的视力矫正解决方案,满足了 AR 视力矫正的关键性能要求。

(a) 量产的4寸SiC波导晶圆;(b) SiC纳米光栅的扫描电子显微镜(SEM)图像;(c) SiC纳米光栅的原子力显微镜(AFM)图像;(d)经过封装与激光切割后的SiC波导镜片;(e) 单目SiC波导镜片重量;(f)激光切割后的菲涅尔近视镜片;(g-h)菲涅尔近视镜片的共聚焦显微镜图像
据慕德微纳测算,未来碳化硅光波导的成本将低至650元左右。目前,他们的第二代光波导解决方案已过渡到大规模生产阶段,该技术方案已供应给多家业内头部企业。
https://doi.org/10.1186/s43593-025-00100-1
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