【论坛预告】慕德微纳：AR光学发展趋势与慕德微纳的解题思路

11月26日，艾邦将在杭州萧山国际机场凯悦酒店举办《第十届AI/AR智能眼镜技术产业论坛》，届时慕德微纳总经理杜凯凯将带来主题分享《AR光学发展趋势与慕德微纳的解题思路》

嘉宾介绍

杜凯凯

杜凯凯，浙江大学光学工程博士，慕德微纳（杭州）科技有限公司创始人兼总经理。专注微纳光电器件设计与制造，在纳米压印模板、超构光学（Metalens）、DOE、AR 衍射光波导方向有丰硕成果，主导建成 8 英寸微纳光学量产线。已申请专利 60 余项（发明 40 项、PCT 3 项），公司为国家高新技术企业、浙江省专精特新企业、“十四五”国家重点研发计划重点专项参与单位。

演讲大纲

内容如下

1、AR光学发展趋势：眼镜形态演进——从厚重视场方案走向“轻、薄、真彩、可量产”，光学成为 AR 终端落地的核心瓶颈；

2、主流光波导技术路线对比：表面浮雕光栅（SRG）vs 体全息（VHG）vs 几何光波导；单层/多层全彩方案的材料-工艺权衡；单目单光机vs双目双光机vs一拖二vs一分二技术路线

3、材料×工艺的破局点：SiC 刻蚀波导（0.35mm 全彩）、玻璃刻蚀（0.4mm）、一体化树脂压印三条路线的取舍；

4、慕德微纳的解题思路：微纳光学平台战略——设计+ 加工（DUV 光刻、纳米压印、RIBE/ICP 刻蚀）+ 8 英寸量产；

5、量产验证与产业协同：光机、材料、设备、整机伙伴共建 AR 光学生态。

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