9月4日，AR光学厂商广纳四维宣布与纳米图案化技术厂商EULITHA（优利赛尔）达成合作，双方将结合碳化硅光学器件与DUV深紫外光刻技术，共同推进碳化硅光波导规模化量产及AR眼镜应用。 广纳四维将碳化硅引入光波导，依托其高折射率、高机械强度与优异透光性能，配合自研DUV光刻与刻蚀工艺，在碳化硅基底上实现纳米级光栅的精准加工，相关方案可实现单片全彩显示、无彩虹纹。 EULITHA则专注于纳米图案化技术，通过DUV深紫外光刻技术在碳化硅基底上进行大面积、高精度图案制备，一次曝光即可制备多组波导，在保证分辨率的同时兼顾生产效率。其位移泰伯光刻（DTL）技术可在4至12英寸衬底上实现高均匀性图案化，分辨率达65nm，具备大曝光场、无拼接、曲面衬底兼容等优势。 此次合作将覆盖光刻、刻蚀、镀膜及组装等环节，通过碳化硅光学器件与DUV光刻技术结合，进一步推进高性能碳化硅光波导的规模化制造与应用。 在SPIE 2026期间，双方已联合展示了基于EULITHA位移泰伯光刻技术制备的碳化硅刻蚀全彩样品，标志着高性能AR光学器件的量产能力已推至新高度。 目前，广纳四维的碳化硅全彩光波导产品厚度已低于0.6mm、单片重量低于3g，已批量应用于Coray Air2商用AR眼镜。近期在Kickstarter开启众筹的Nimbo X1 AI眼镜同样搭载了广纳四维的碳化硅全彩衍射光波导方案。 2026年8月，广纳四维宣布完成连续两轮融资，两轮合计近2亿元，投资方包括广州产投、广州金控、金科君创、美的资本等多家机构。资金将主要用于下一代全彩技术研发、产线扩建及市场拓展。目前，公司已建成百万套级全自动纳米压印产线，并已启动A轮融资。 来源：广纳四维、艾邦智造整理
一方深耕碳化硅刻蚀光学，一方专精纳米图案化
从光刻到组装，覆盖全链条制造
